涂膜的制备方法、抗反射薄膜及其制备方法、使用该膜的偏振片和图

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专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：涂膜的制备方法、抗反射薄膜及其制备方法、使用

该膜的偏振片和图像显示装置

专利类型：发明专利

发明人：铃木贵登,能条和彦,小川朋成,长谷川阳一,冲和宏申请号：CN200580019811.5申请日：20050613公开号：CN1997460A公开日：20070711

摘要：本发明提供了一种抗反射薄膜的制备方法，包括使用缝模将涂布液涂敷到由支撑辊支撑并连续运行的基料上形成至少一层，所述层在干燥状态下的厚度为200nm或更小并且折射率低于所述基料的折射率。该缝模在运行的基料的下游具有边缘，该边缘沿运行的基料方向的平台段长度是30－100μm的，并且在运行的基料上游的缝模的边缘与基料表面之间的间距调整至比在运行的基料下游的缝模的边缘与基料表面之间的间距大30－120μm。

申请人：富士胶片株式会社

地址：日本东京都

国籍：JP

代理机构：永新专利商标代理有限公司

代理人：于辉

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