掩膜结构[发明专利]
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专利名称：掩膜结构专利类型：发明专利
发明人：付佳,赵晶晶,王腾雨,郑小红,李静静申请号：CN202011467711.1申请日：20201214公开号：CN112626452A公开日：20210409
摘要：本发明涉及一种掩膜结构，包括：掩膜框架，包括围合形成有中空部的框架本体，框架本体具有相背的支撑面和背面，框架本体上开设有由支撑面向背面下沉的下沉部，下沉部具有与背面相交设置的斜面；对位掩膜板，设置于支撑面，对位掩膜板开设有间隔设置且分别与下沉部连通的对位孔以及辅助孔，其中，沿垂直于背面的第一方向，对位孔以及辅助孔的正投影均位于下沉部的正投影内且斜面的正投影覆盖对位孔的正投影设置。本发明实施例提供的掩膜结构，在清洗时，能够减少药液残留，保证蒸镀机对对位孔位置区的对位抓取精度，降低误抓风险。
申请人：昆山国显光电有限公司
地址：215300 江苏省苏州市昆山市开发区龙腾路1号4幢
国籍：CN
代理机构：北京东方亿思知识产权代理有限责任公司
代理人：臧静
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